IVH-665
产品参数
DATA
| 型号 | 型号 | IVH-665 |
| 名称 | 双极高功率脉冲磁控溅射镀膜机 | |
| 有效离化范围 | Ф400mm x H450mm | |
| 装塔规格 | 数量 | 6 |
| 直径 | 130mm | |
| 溅射阴极信息 | 面积 | 500mm x 88mm |
| 数量 | 6组HiPIMS阴极 | |
| 负脉冲 | 电压-1000V，电流-1000A，脉宽20~200μs，频率100~5000Hz | |
| 正脉冲 | 电压+20~+600V，电流200A，脉宽5~400μs，延迟1~50μs | |
| 偏压模式 | 直流，偏压同步，同步延迟，双极中频 | |
| 装载量 | 杆刀(Ф4mm x 60mm) | 1800支 |
| 刀片(12.7mm x 3.5mm) | 4980支 | |
| 转盘最大承载 | 250kg | |
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工艺CrAlN运行时间 (膜厚3μm) |
整炉 | 4.0小时 |
| 涂层 | 1小时 | |
| 设备外围尺寸 | (1400 x 3400 x 2150)mm3 | |
| 额定功率 | 85kw | |
技术优势与性能
PERFORMANCE
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高硬度低应力
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高附着力＞150N
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更厚更耐磨
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特别适合微小径
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光滑致密
特点及功能
FUNCTION
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6组全部HiPIMS阴极
- 超快沉积速率3.3um/小时
- 平均功率高达15KW
- 峰值功率高达1MW
- 放电频率高达5000Hz
- 支持更复杂的膜层结构
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Follow up Closed专利
- 快速抑弧，能量吸收
- 低迟滞的大电流放电
- 更低的放电电流延迟
- 极低的能量传输损耗
- 冷却电极，避免过热
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双极叠加反向脉冲V+
- 附着力接近电弧技术
- 能量利用率高
- 离子能量平均提升至60eV
- 沉积速度提升20%-50%
- 可选择性离子助推
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智能靶位参数化控制
- 智能补正，工艺更稳定
- 不受靶材状态影响
- 离化率不受功率影响
- 可获得稳定的等离子体
- 自主研发全自动软件